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F. Rousseau
Laboratoire de Génie des Procédés Plasmas et Traitement de Surface − Université Pierre et Marie Curie − Paris 6 - ENSCP, 11, rue Pierre et Marie Curie, 75231 Paris Cedex 05, France
Weitere Infos über den Autor erhalten Sie im Expertenverzeichnis
Articles
OPTICAL EMISSION SPECTROSCOPY OF A SUPERSONIC LOW-PRESSURE PLASMA REACTOR USED TO SYNTHESIS SOFC CATHODES THIN LAYERS
Vol. 10 '2006
-
High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes
A FLEXIBLE LOW PRESSURE PLASMA PROCESS FOR THE DEPOSITION OF COMPLEX THICK OXIDE COATINGS
Vol. 13 '2009
-
High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes
EFFECTS OF PLASMA PARAMETERS ON THE PROPERTIES OF La
1-x
Sr
x
MnO
3
THIN LAYERS DEPOSITED IN LOW-PRESSURE RF PLASMA WAVE SHOCK REACTOR
Vol. 7 '2003
-
High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes
INVESTIGATION ON SUPERSONIC GAS FLOW COUPLED WITH AN INDUCTIVE LOW-PRESSURE PLASMA USED FOR THE SYNTHESIS OF SOFC MATERIAL
Vol. 8 '2004
-
High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes
EFFECTS OF PLASMA PARAMETERS ON THE PROPERTIES OF La
1-x
Sr
x
MnO
3
THIN LAYERS DEPOSITED IN LOW-PRESSURE RF PLASMA WAVE SHOCK REACTOR
Vol. 0 '2003
-
Progress in Plasma Processing of Materials, 2003
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