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Vladimir A. Pilipenko
JSC "INTEGRAL" − Holding Management Company, 121A Kazinets Str., Minsk, 220108, Belarus
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Articles
CHARACTERISTIC FEATURES OF HEATING SEMICONDUCTOR SILICON STRUCTURES DURING RAPID THERMAL TREATMENT IN THE VLSI TECHNOLOGY
Vol. 22 '2018
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High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes
FORMATION OF PLATINUM SILICIDE DURING RAPID THERMAL PROCESSING OF THE PLATINUM− SILICON SYSTEM: MICROSTRUCTURE AND ELECTROPHYSICAL CHARACTERISTICS
Vol. 23 '2019
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High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes
FORMATION OF PLATINUM SILICIDE LAYERS DURING THE RAPID THERMAL PROCESSING OF THE PLATINUM–SILICON SYSTEM: STRUCTURAL-PHASE CHANGES
Vol. 23 '2019
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High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes
INFLUENCE OF RAPID THERMAL TREATMENT OF INITIAL SILICON WAFERS ON THE ELECTROPHYSICAL PROPERTIES OF SILICON DIOXIDE OBTAINED BY PYROGENOUS OXIDATION
Vol. 23 '2019
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High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes
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