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F. Bourg
ENSCP-UPMC Laboratory of plasma processing and surface treatment 11, rue Pierre et Marie Curie 75005 Paris - France
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Articles
Study of excited atomic states of hydrogen and chemical phenomena on liquid silicon target under a RF inductive thermal plasma torch
Vol. 5 '2001
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High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes
PHYSICO-CHEMICAL CONDITIONS STUDY FOR DEPOSITION OF SILICON LAYER ON A SUBSTRATE BY RF PLASMA
Vol. 0 '2001
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Progress in Plasma Processing of Materials, 2001
STUDY OF VARIOUS PARAMETERS INFLUENCING THE TREATMENT OF SILICON PARTICLES IN A R.F. PLASMA FLOW
Vol. 0 '2001
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