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S. Hassaine
Laboratoire de physico-chimie industrielle, bat 401, INSA, F-69621 Villeurbanne, France
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Articles
COMPARISON OF AIR AND ARGON PLASMAS IN GASEOUS ELEMENTAL POLLUTANT ANALYSIS FOR PROCESS CONTROL AND ENVIRONMENT
Vol. 1 '1997
-
High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes
CONTINUOUS EMISSION MONITORING OF METALS IN FLUE GASES BY ICP-OES: ROLE OF CALIBRATION AND SAMPLE GAS
Vol. 5 '2001
-
High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes
ON LINE MONITORING OF ELEMENTAL POLLUTANTS IN FLUE GASES: STANDARDIZATION, PRECISION AND ACCURACY
Vol. 1 '1997
-
Progress in Plasma Processing of Materials, 1997
TRUENESS AND PRECISION IN ON-LINE MONITORING OF METALLIC POLLUTANTS IN FLUE GASES BY ICP-OES
Vol. 1 '1999
-
Progress in Plasma Processing of Materials, 1999
CONTINUOUS EMISSION MONITORING OF METALS IN FLUE GASES BY ICP-OES: EFFECT OF GASEOUS MATRIX AND OPERATING CONDITIONS ON THE SPECTRAL INTERFERENCES
Vol. 0 '2001
-
Progress in Plasma Processing of Materials, 2001
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