The home for science and engineering™
Русский
English
中文
日本語
Português
Deutsch
Français
Español
Цены и условия подписки
О Begell House
Контакты
Войти
0
Корзина покупок
Search box
Search
Главная
Книги
е-Книги
Журналы
Справочники & Сборники
Авторы, Редакторы, Рецензенты
А - Я индекс
Поиск журналов
Главная
Begell House Авторы, Редакторы и Рецензенты
Авторы, Редакторы, Рецензенты
Menu
Авторам
Редакторам
Рецензентам
F. Krayem
ENSCP-UPMC Laboratory of plasma processing and surface treatment 11, rue Pierre et Marie Curie 75005 Paris - France
Больше информации об авторе - в Directory of Specialists
Articles
Study of excited atomic states of hydrogen and chemical phenomena on liquid silicon target under a RF inductive thermal plasma torch
Vol. 5 '2001
-
High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes
IN-FLIGHT MEASUREMENT OF PARTICLE SIZE AND VELOCITY IN A RADIO FREQUENCY PLASMA TORCH
Vol. 1 '1999
-
Progress in Plasma Processing of Materials, 1999
PROPERTIES AND CHARACTERISATION OF PHOTOVOLTAIC SILICON LAYERS OBTAINED BY RF THERMAL PLASMA SPRAYING PROCESS
Vol. 1 '1999
-
Progress in Plasma Processing of Materials, 1999
PHYSICO-CHEMICAL CONDITIONS STUDY FOR DEPOSITION OF SILICON LAYER ON A SUBSTRATE BY RF PLASMA
Vol. 0 '2001
-
Progress in Plasma Processing of Materials, 2001
STUDY OF VARIOUS PARAMETERS INFLUENCING THE TREATMENT OF SILICON PARTICLES IN A R.F. PLASMA FLOW
Vol. 0 '2001
-
Progress in Plasma Processing of Materials, 2001
Главная
Цифровой портал Бегель
Begell Электронная библиотека
Журналы
Книги
е-Книги
Справочники & Сборники
Авторы, Редакторы, Рецензенты
А - Я индекс
Поиск журналов
Цены и условия подписки
О Begell House
Контакты
Language
English
中文
Русский
日本語
Português
Deutsch
Français
Español