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G. M. W. Kroesen
Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, The Netherlands
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MEASURING ELECTRIC FIELDS WITH LASER-INDUCED FLUORESCENCE-DIP STARK SPECTROSCOPY
Vol. 11 '2007
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High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes
ACTIVE AND PASSIVE SPECTROSCOPY ON EUV-PRODUCING DISCHARGE PLASMAS
Vol. 8 '2004
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FLOW AND TEMPERATURE DEPENDENCE OF PARTICLE FORMATION IN AR-SILANE RF CAPACITIVELY COUPLED PLASMAS
Vol. 9 '2005
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High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes
IN SITU IR OPTICAL MEASUREMENTS OF GAS PROPERTIES IN A CAPACITIVELY COUPLED RF Ar/SiH
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PLASMA
Vol. 9 '2005
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DUST CLOUD DYNAMICS IN A NON-EQUILIBRIUM PLASMA
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Progress in Plasma Processing of Materials, 2003
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