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M. Kambara
Department of Materials Engineering, Graduate School of Engineering, The University of Tokyo, 7-3-1, Bongo, Bunkyo-ku, Tokyo 113-8656, Japan
Weitere Infos über den Autor erhalten Sie im Expertenverzeichnis
Articles
SUPER HIGH RATE DEPOSITION OF HOMO- AND HETERO-EPITAXIAL SILICON THICK FILMS BY MESO-PLASMA CVD
Vol. 11 '2007
-
High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes
NANO POWDER SYNTHESIS BY PLASMAS: Report of the Session held at the International Round Table on Thermal Plasma Fundamentals and Applications: Held in Sharm el Sheikh Egypt - Jan. 14-18 2007
Vol. 12 '2008
-
High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes
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