The home for science and engineering™
Español
English
中文
Русский
日本語
Português
Deutsch
Français
Precios y Políticas de Suscripcione
Sobre Begell House
Contáctenos
Ingreso de Usuario
0
Carrito de Compras
Search box
Search
Inicio
Libros
eLibros
Revistas
Referencias y Libros de Ponencias
Autores, Editores, Críticos
Índice de Productos de la A a la Z
Encontrar revistas
Inicio
Autores, Editores y Críticos de Begell House
Autores, Editores y Críticos de Begell House
Menu
Para autores
Para editores
Para revisores
Ch. Voulgaris
Plasma Technology Lab, Dept.Chem. Engineering, University of Pates, P.O.Box 1407,26500 Patra, Greece
Obtenga más información sobre el autor en el Directorio de Especialistas
Articles
TEOS/O
2
GAS PRESSURE AS A CHEMICAL COMPOSITION ADJUSTER OF PLASMA DEPOSITED SIO
2
THIN FILMS
Vol. 9 '2005
-
High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes
Inicio
Portal Digital Begell
Biblioteca Digital Begell
Revistas
Libros
eLibros
Referencias y Libros de Ponencias
Autores, Editores, Críticos
Índice de Productos de la A a la Z
Encontrar revistas
Precios y Políticas de Suscripcione
Sobre Begell House
Contáctenos
Language
English
中文
Русский
日本語
Português
Deutsch
Français
Español