カスタマーログイン 0 ショッピングカート
ホーム 書籍 電子書籍 ジャーナル 参考文献と会報 著者、編集者、レビュー者 A-Z商品インデックス
Progress in Plasma Processing of Materials, 1999

ISBN 印刷: 1-56700-126-2

PROPERTIES AND CHARACTERISATION OF PHOTOVOLTAIC SILICON LAYERS OBTAINED BY RF THERMAL PLASMA SPRAYING PROCESS

要約

The deposit of silicon layer by plasma has been characterized by using SEM, EDX analysis, SIMS, XPS in order to explain the composition and the overall properties of the silicon layers for photovoltaic applications. Characterization of silicon deposits has been performed by the hydrogen rate analysis using exodiffusion method. Finally, the on-line diagnostics of the plasma used was: Laser Doppler Anemometry (LDA), Laser Doppler Granulometry (LDG) in order to qualify the process of deposit.
ホーム Begell Digital Portal Begellデジタルライブラリー ジャーナル 書籍 電子書籍 参考文献と会報 著者、編集者、レビュー者 A-Z商品インデックス 価格及び購読のポリシー Begell Houseの概要 連絡先 Language English 中文 Русский 日本語 Português Deutsch Français Español